- [吉致動(dòng)態(tài)]碳化硅襯底需要CMP嗎[ 2024-01-30 17:17 ]
- 碳化硅襯底需要CMP嗎？需要碳化硅SIC晶圓生產(chǎn)的最終過(guò)程為化學(xué)機(jī)械研磨平面步驟---簡(jiǎn)稱“CMP”。CMP工藝旨在制備用于外延生長(zhǎng)的襯底表面，同時(shí)使晶圓表面平坦化達(dá)到理想的粗糙度。 化學(xué)機(jī)械拋光步驟一般使用化學(xué)研磨液和聚氨酯基或聚氨酯浸漬氈型研磨片來(lái)實(shí)現(xiàn)的。碳化硅晶圓置于研磨片上，通過(guò)夾具或真空吸附墊將單面固定。被磨拋的晶圓載體暴露于研磨漿的化學(xué)反應(yīng)及物理摩擦中，僅從晶圓表面去除幾微米。 吉致電子研發(fā)用于SIC襯底研磨拋光的CMP研磨液/拋光液，以及研
-
http://m.shatx.com/Article/thgcdxycmp_1.html
相關(guān)搜索
- 無(wú)相關(guān)搜索
吉致熱門資訊
-
南京某手機(jī)外殼加工廠 -
上海某精磨玻璃拋光公司
-
廣東硅晶片拋光廠
-
吉致應(yīng)用案例：藍(lán)寶石
-
吉致應(yīng)用案例：陶瓷
-
吉致應(yīng)用案例：鎢鋼
-
吉致資訊第56期：高性價(jià)比Leme藍(lán)牙耳機(jī)
-
吉致資訊第64期：畫(huà)家的福音“APPLE PENCIL”
-
CMP拋光液的應(yīng)用領(lǐng)域有哪些？
-
吉致資訊第118期：拋光墊性能對(duì)拋光液的影響
-
吉致資訊第119期 藍(lán)寶石化學(xué)機(jī)械拋光液作用研究
-
吉致資訊第120期 諾基亞10 MAX長(zhǎng)這樣，這設(shè)計(jì)有點(diǎn)復(fù)古
-
吉致咨詢第121期 海綿砂紙?jiān)谀Ｐ痛蚰サ膽?yīng)用
-
吉致咨詢第122期 拋光液作用和濃度對(duì)工件的影響
-
吉致資訊第123期 如何正確選擇合適的拋光液
-
吉致資訊第124期 陶瓷鏡面拋光工藝
-
吉致資訊第125期 如何在研磨工藝中減免劃痕
-
吉致資訊第126期 NASA正在研究混合動(dòng)力客機(jī)：噪音更低、更省油
-
吉致咨資訊第127期 真人翻譯評(píng)訊飛曉譯翻譯機(jī)：晚來(lái)10年的“翻譯神器”
-
吉致資訊第128期 iPhone SE二代存在的意義 小尺寸大屏幕成終目
