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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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吉致電子CMP拋光液適用設(shè)備有哪些?

文章出處:責(zé)任編輯:人氣:-發(fā)表時間:2022-08-23 16:48【

  吉致電子研發(fā)的拋光液產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于金屬、光電、集成電路半導(dǎo)體、陶瓷、硬盤、面板顯示器等材質(zhì)表面的深度處理。吉致電子CMP拋光耗材產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于各種CMP領(lǐng)域,包括Lapping機臺、五軸機臺、單面拋光機、雙面拋光機等其他研磨拋光機臺設(shè)備。

吉致電子 CMP拋光液適用設(shè)備

  拋光液升級配方可用于半導(dǎo)體行業(yè)硅片硅襯底減薄、碳化硅襯底拋光、藍寶石襯底拋光。針對性更強的拋光液產(chǎn)品如阻擋層化學(xué)機械拋光液,鎢化學(xué)機械拋光液以及介質(zhì)層化學(xué)機械拋光液、淺槽隔離化學(xué)機械拋光液、用于3D封裝TSV化學(xué)機械拋光液可詳細咨詢。拋光液的特點是不傷機臺和工件,液體分散性好,提高拋光速率改善工件表面質(zhì)量,易清洗無殘留。

吉致電子科技25年研發(fā)經(jīng)驗,實力拋光液生產(chǎn)廠家,可按客戶要求調(diào)整改良配方,提高工件拋磨效果。

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