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吉致電子·硅片拋光液·半導體晶圓cmp拋光液·Si Slurry
產(chǎn)品名稱:硅片拋光液/硅晶圓拋光研磨/半導體晶圓研磨拋光
產(chǎn)品特點:用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圓的CMP粗拋、中拋、精拋,減少晶圓表面的不平整。達到半導體高質量晶片的組裝工藝要求。[查看] - http://m.shatx.com/Products/bdtgppgysi.html
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吉致電子·鉬片拋光液·金屬鉬cmp拋光液
產(chǎn)品名稱:鉬拋光液/金屬鉬拋光/激光反射鏡拋光液/CMP研磨液/鏡面拋光液
產(chǎn)品特點:吉致電子金屬鉬拋光液可用于鋼鐵、化工、電子、航天、光學領域的鉬片CMP加工,達到優(yōu)良的表面平坦度,拋光速率快、良率高、表面均一無缺陷。[查看] - http://m.shatx.com/Products/jsmpgympcm.html
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產(chǎn)品名稱:氧化層拋光液/Oxide slurry/Oxide氧化物CMP研磨液
磨料類型:半導體cmp拋光液slurry
磨料粒徑:納米級SiO2[查看] - http://m.shatx.com/Products/yhcpgyoxid.html
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產(chǎn)品名稱:3D先進封裝TSV CMP CU Slurry 銅化學機械拋光液
磨料類型:半導體cmp拋光液slurry
磨料粒徑:專利化學配方/可定制[查看] - http://m.shatx.com/Products/3dxjfztsvc.html
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產(chǎn)品名稱:磷化銦晶圓拋光液/InP拋光漿料/磷化銦slurry
磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:專利化學配方/可定制[查看] - http://m.shatx.com/Products/jypgylhyin.html
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產(chǎn)品名稱:射頻濾波器拋光液/半導體拋光液/CMP化學機械拋光液
磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:10-150nm/全粒徑可定制[查看] - http://m.shatx.com/Products/splbqpgybd.html
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