- [常見(jiàn)問(wèn)題]半導(dǎo)體拋光中銅拋光液和鎢拋光液的區(qū)別[
2023-08-18 16:58
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常用的半導(dǎo)體拋光液,按拋光對(duì)象的不同分W鎢拋光液、CU銅拋光液、氧化層拋光液、STI拋光液等。其中銅拋光液slurry主要應(yīng)用于 130nm 及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)邏輯芯片的制造工藝,而鎢拋光液W slurry則大量應(yīng)用于存儲(chǔ)芯片制造工藝,在邏輯芯片中用量較少。 銅拋光液,主要由腐蝕劑、成膜劑和納米磨料組成。腐蝕劑用來(lái)腐蝕溶解銅表面,成膜劑用于形成銅表面的鈍化膜,鈍化膜的形成可以保護(hù)腐蝕劑的進(jìn)一步腐蝕,并可有效地降低金屬表面硬度。除此之外,CMP拋光液中經(jīng)常添加一些化學(xué)試劑以調(diào)節(jié)PH值,為拋光過(guò)程
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http://m.shatx.com/Article/bdtpgztpgy_1.html
- [行業(yè)資訊]什么是OX研磨液?吉致電子氧化層拋光液性能有哪些?[
2023-04-19 10:08
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Oxide slurry 簡(jiǎn)稱(chēng)OX氧化物研磨液廣泛用于氧化層材料的CMP拋光,拋光研磨后達(dá)到精準(zhǔn)的表面平整度和厚度控制,如Si Wafer晶圓表面的氧化硅層或者上層金屬與氧化硅之間的氧化硅層等。 吉致電子OX氧化層拋光液適用于4-12英寸氧化硅鍍膜片的氧化層拋光液。JEEZ半導(dǎo)體拋光液性能優(yōu)點(diǎn):①使用純度高的納米拋光磨料,擁有高速率加工能力;②slurry粒徑大小均勻因此能獲得無(wú)缺陷的表面;③ 吉致Oxide slurry 易清洗無(wú)殘留,對(duì)后續(xù)工藝影響小。
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http://m.shatx.com/Article/smsoxymyjz_1.html
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