吉致資訊第1期:化學(xué)機(jī)械拋光中拋光墊的主要作用
拋光墊是化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)系統(tǒng)的重要組成部分。它具有貯存拋光液,并把它均勻運(yùn)送到工件的整個(gè)加區(qū)域等作用。
拋光墊的性能主要由拋光墊的材料種類、材料性能、表面結(jié)構(gòu)與狀態(tài)以及修整參數(shù)等決定。拋光墊的剪切模量或增大拋光墊的可壓縮性,CMP過(guò)程材料去除率增大;采用表面合理開(kāi)槽的拋光墊,可提高材料去除率,降低晶片表面的不均勻性;拋光墊粗糙的表面有利于提高材料去除率。對(duì)拋光墊進(jìn)行適當(dāng)?shù)男拚梢栽黾訏伖鈮|表面粗糙度、使材料去除率趨于一致。與離線修整相比較,在線修整時(shí)修整效果比較好。
在CMP中,拋光墊具有以下功能:
(1)能貯存拋光液,并把它運(yùn)送到工件的整個(gè)加工區(qū)域,使拋光均勻;
(2)從工件拋光表面除去拋光過(guò)程產(chǎn)生的殘留物質(zhì)(如拋光碎屑、拋光墊碎片等);
(3)傳遞材料去除所需的機(jī)械載荷;
(4)維持拋光過(guò)程所需的機(jī)械和化學(xué)環(huán)境。拋光墊性能主要由拋光墊的材料種類、材料性能、表面結(jié)構(gòu)和狀態(tài)等決定。
用于CMP的拋光墊須具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性(耐腐蝕性)、親水性以及機(jī)械力學(xué)特性。拋光墊通??煞譃橛操|(zhì)和軟質(zhì)(彈性、粘彈性)兩種。
硬質(zhì)拋光墊可較好地保證工件表面的平面度
軟質(zhì)拋光墊可獲得加工變質(zhì)層和表面粗糙度都很小的拋光表面
用于CMP過(guò)程的硬質(zhì)拋光墊有各種粗布?jí)|、纖維織物墊、聚乙烯墊等,軟質(zhì)拋光墊主要有聚氨酯墊、細(xì)毛氈墊、各種絨毛布?jí)|等。
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拋光墊種類:阻尼布拋光墊,聚氨酯拋光墊,白磨皮拋光墊
『拋光墊直通車(chē)』:http://www.fuji1995.com/pgd.html
拋光液種類:氧化硅拋光液,氧化鋁拋光液,鉆石拋光液
『拋光液直通車(chē)』:http://www.fuji1995.com/pgy.html
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『吉致電子』始于1995年,專注鉆研化學(xué)機(jī)械拋光19年,化學(xué)機(jī)械拋光行業(yè)領(lǐng)軍者,品質(zhì)贏得世界500強(qiáng)青睞。
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