氮化鋁陶瓷基板具有高導(dǎo)熱率、低介電常數(shù)、低熱膨脹系數(shù)、高機(jī)械強(qiáng)度、高耐腐蝕性等特點(diǎn)。其作為電路元件及互連線承載體，廣泛應(yīng)用再軍事和空間技術(shù)通訊、計(jì)算機(jī)、儀器儀表、半導(dǎo)體電子設(shè)備、汽車(chē)等各個(gè)領(lǐng)域。氮化鋁陶瓷經(jīng)過(guò)CMP拋光后可用于半導(dǎo)體激光器、固體繼電器、大功率集成電路及封裝等要求絕緣又高散熱的大功率器件上。

吉致電子氮化鋁陶瓷拋光液可達(dá)鏡面效果，特點(diǎn)如下：

1、納米級(jí)拋光液，拋光后具有較優(yōu)的粗糙度

2、陶瓷基片拋光液綠色無(wú)污染、不含鹵素及重金屬元素

3、拋光液可循環(huán)使用，根據(jù)工藝要求可添加去離子水稀釋

氮化鋁陶瓷基板通過(guò)CMP化學(xué)機(jī)械平面拋光工藝，結(jié)合吉致電子平面研磨機(jī)配合研磨液、拋光液、研磨盤(pán)就可以達(dá)到理想鏡面效果。

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