碳化硅襯底CMP化學(xué)機械拋光工藝需要用到吉致電子CMP拋光液和拋光墊，拋磨工藝一般分為3道流程：雙面拋磨、粗拋、精拋。下面來看看吉致電子小編碳化硅晶圓拋光工藝介紹和拋光產(chǎn)品推薦吧。

碳化硅襯底雙面研磨：一般使用雙面鑄鐵盤配合吉致電子金剛石研磨液或者碳化硅晶圓研磨液進行加工；主要目的是去除線切損傷層以及改善晶片的平坦度。

碳化硅襯底粗拋工藝：針對碳化硅襯底加工采用專門的碳化硅晶圓拋光液配合粗拋墊。既可以達到傳統(tǒng)工藝中較高的的拋光速率（與精磨基本相當(dāng)）又可以達到傳統(tǒng)工藝中粗拋后的表面光潔度。

碳化硅襯底精拋工藝：SIC晶圓精拋一般采用氧化硅拋光液配合專用精拋墊，采用物理化學(xué)的拋光方式（CMP）達到半導(dǎo)體級別的表面精度和高平坦度。

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