吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

碳化硅襯底研磨拋光·工藝吉致電子，CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

產(chǎn)品分類：吉致電子·碳化硅研磨拋光·半導(dǎo)體晶圓拋光

產(chǎn)品名稱：碳化硅研磨液/碳化硅拋光液/碳化硅SIC研磨墊/Sic精拋墊

吉致電子針對(duì)碳化硅SIC拋光的4道工藝制程搭配不同型號(hào)研磨液、拋光液和拋光墊（粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊）。在研磨和拋光應(yīng)用中提高碳化硅襯底表面質(zhì)量，同時(shí)顯著提高材料去除率。

產(chǎn)品工藝及用途：適用于SiC碳化硅襯底DMP和CMP工藝制程，有效提升效率以及良率，碳化硅拋光液/拋光墊實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化替代。

碳化硅SiC研磨工藝·粗研磨/精研磨

吉致電子SIC襯底CMP粗磨/精磨工藝：Tip1粗磨液+研磨墊，Ra可達(dá)1.22nm及以下;Tip2精磨液+研磨墊，Ra可達(dá)0.45nm及以下。

碳化硅SiC拋光工藝·粗拋光/精拋光

吉致電子SIC襯底CMP粗拋/精拋工藝：Tip3粗拋液+研磨墊，Ra可達(dá)0.13nm及以下;Tip4精拋液+精拋墊，Ra可達(dá)0.06nm及以下。

想了解更多碳化硅CMP拋光工藝參數(shù)與方案，歡迎來電咨詢

吉致電子SiC碳化硅拋光液儲(chǔ)存方法：

通風(fēng)，陰涼，干燥的庫房，本品需在5-35℃儲(chǔ)存，防止陽光直射及凍結(jié)，零度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價(jià)格：

吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備，特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類產(chǎn)品。

本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快，品質(zhì)好，拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃等各類拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案！

吉致電子研發(fā)團(tuán)隊(duì)--15年經(jīng)驗(yàn)CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！

無錫吉致電子科技有限公司

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